公司成立于 1967 年，为全球领先的半导体专用设备制造商，总部位于美国。公司向半导体、显示器及相关行业提供制造设备、服务和软件，在半导体领域的主要产品为芯片制造领域的各种制造设备，包括外延、离子注入、氧化和氮化、快速热处理、物理气相沉积、化学气相沉积、化学机械平坦化、电化学沉积、原子层沉积、刻蚀以及计量和检验工具。

公司成立于 1984 年，总部位于荷兰，为半导体行业光刻设备制造业的全球领先者之一，其紫外光刻设备（EUV）光刻机在全球范围内处于垄断地位。

公司成立于 1976 年，总部位于美国，为全球领先的设备供应商，为半导体、数据存储、LED 及其他相关纳米电子产业提供工艺控制与良率管理的解决方案，主要产品为用于晶圆制造、封装测试领域的检测、测试和数据分析等设备。

公司成立于 1943 年，是日本半导体专用设备和 LCD 生产设备公司，客户遍及日本、韩国和中国台湾地区。DNS 主要产品为清洗设备、刻蚀设备、涂胶/显影设备等，其中清洗设备在半导体业界具有极高的市占率，在全球半导体清洗设备市场的占有率在 40%以上。

公司成立于 1963 年，是全球领先的半导体制造设备、液晶显示器制造设备制造商之一。该公司的主要产品主要包括气相沉积设备、涂胶/显影设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、化学气相沉积、湿法清洗设备、测试设备及平板液晶显示设备等。

公司成立于 1980 年，总部位于美国加州弗里蒙特，是向全球半导体产业提供晶圆制造设备和服务的主要供应商之一。公司的主要产品包括用于制造集

成电路的刻蚀设备、气相沉积设备、电镀设备、清洗设备等半导体加工设备。

公司成立于 2004 年，是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司，是中国集成电路设备行业的领先企业。中微公司聚焦用于集成电路、LED 芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和 MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。

公司成立于 2001 年，是由北京七星华创电子股份有限公司和北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司于 2016 年战略重组而成，总部位于北京市，从事基础电子产品的研发、生产、销售及技术服务业务，主要产品为刻蚀设备、PVD 设备、立式回火炉设备和清洗设备等半导体专用装备、真空装备、新能源锂电装备及精密元器件，并为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案。

公司成立于 2002 年，主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影设备、喷胶设备）和单片式湿法设备（清洗设备、去胶设备、湿法刻蚀设备），可用于 6 英寸及以下单片处理（如 LED晶圆制造环节）及 8/12 英寸单片处理（如晶圆制造及先进封装环节）。

公司成立于 2008 年，是一家致力于提升中国集成电路专用装备技术水平、积极推动集成电路装备业升级的高新技术企业。长川科技自成立以来一直专注于集成电路测试设备的自主研发和创新，主营产品包括测试设备和分选设备。